TSMC resmi mengumumkan dimulainya produksi massal chip 2 nm (N2) di Fab 22 yang berlokasi di Kaohsiung, Taiwan bagian selatan. Fasilitas ini menjadi pabrik TSMC pertama yang beroperasi sejauh ini di wilayah selatan Taiwan, sekaligus menandai fase awal dari rencana ambisius pembangunan hingga lima tahap fab di lokasi tersebut.
Fab 22 menggunakan wafer 300 mm dan menjadi pabrik pertama TSMC yang mengimplementasikan teknologi transistor nanosheet generasi pertama pada node N2. Peralihan ke arsitektur nanosheet ini merupakan langkah strategis penting, mengingat teknologi tersebut digadang-gadang sebagai penerus FinFET untuk menghadapi tantangan skala di bawah 3 nm.
TSMC mengklaim node N2 memberikan lompatan penuh dalam hal performa dan efisiensi daya, meski pembanding yang digunakan adalah node N3E (generasi kedua 3 nm), bukan N3 generasi awal. Hal ini mengindikasikan bahwa peningkatan N2 sedikit melampaui standar “full node jump” yang biasa diterapkan TSMC.
Secara teknis, node N2 menawarkan peningkatan performa sekitar 10 sampai 15 persen pada tingkat konsumsi daya yang sama, atau efisiensi daya 25–30 persen lebih baik pada performa setara jika dibandingkan dengan N3E. Selain itu, kepadatan transistor juga meningkat sekitar 15 persen, yang berpotensi memungkinkan desain chip lebih kompleks dalam ukuran die yang relatif serupa.
TSMC juga menyertakan sejumlah inovasi tambahan untuk mendongkrak kinerja, seperti lapisan redistribusi (RDL) berhambatan rendah dan kapasitor metal-insulator-metal (MiM) berkinerja sangat tinggi. Klaim ini terdengar menjanjikan, namun efektivitas nyatanya baru akan terlihat ketika produk komersial berbasis N2 mulai hadir di pasar.
Pertanyaan terbesar saat ini adalah siapa pelanggan pertama yang akan meluncurkan chip berbasis N2. Dengan produksi massal sudah dimulai, besar kemungkinan node ini akan menjadi fondasi bagi prosesor generasi berikutnya di segmen high-performance computing, smartphone flagship, dan AI accelerator. Jika klaim TSMC terealisasi di produk nyata, N2 berpotensi memperlebar jarak teknologi manufaktur TSMC dibanding para pesaingnya dalam beberapa tahun ke depan.